電子デバイス、半導体デバイス製造工程に不可欠なレジスト除去技術を、環境配慮型（溶液不使用）、高生産性で提供します。
アッシング装置 Model：NA
次世代ウェーハプロセスから実装工程まで幅広いプロセス向けの、ウェーハとパネル対応の2タイプを提供するアッシング装置です。 ウェーハ対応モデルは、次世代ウェーハ……
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枚葉式アッシング装置 Model：uGmni-200A
スパッタ、エッチャー、アッシャー＆CVD複数プロセス室組合せ可の "Model：uGmni" は、全プロセス室ULVAC製です。スペア部品の低減や同一操作画面に……
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