半導体デバイス向け高性能イオン注入装置のシリーズです。SiC用の高温タイプも提供します。
SiC用高温イオン注入装置 Model：IH
"Model：IH"は、SiC・パワーデバイス製造に対応した高温／常温プロセス切替可能な高エネルギーイオン注入装置です。試作から量産まで高スループットな注入プロ……
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中電流型イオン注入装置Model：SOPHI-200 / SOPHI-260
中電流型イオン注入装置 "Model：SSOPHI-200 / SOPHI-260" は、最新技術を搭載した8、6、5インチの究極のパラレルビームイオン注入装置……
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研究開発用中電流イオン注入装置Model：IMX-3500
中電流イオン注入装置 "Model：IMX-3500" は、最大エネルギ200kV、ウェハサイズ8インチまでの、イオン注入装置で、大学等での研究開発に最適です。
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