電子デバイス、半導体デバイス製造工程に不可欠なレジスト除去技術を、環境配慮型（溶液不使用）、高生産性で提供します。
アッシング装置 Model：NA
"Model：NA" はクリティカルな次世代ウェハプロセスからウェハレベル実装工程まで幅広いプロセスに対応可能なウェハサイズフリーのアッシング装置です。 ……
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枚葉式アッシング装置 Model：uGmni-200A
スパッタ、エッチャー、アッシャー＆CVD複数プロセス室組合せ可の "Model：uGmni" は、全プロセス室ULVAC製です。スペア部品の低減や同一操作画面に……
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