プロセス関連装置

あらゆる業界に多数の納入実績を誇るアルバックのスパッタリング装置です。

アルバックの真空蒸着装置は、板状の基板からフレキシブル基板まで、次世代電子機器、産業機器に必須な蒸着技術を提供しています。

a-Si成膜や不動態膜成膜に不可欠なPE-CVD装置から、メタルCVD、熱CVD装置まで、枚葉式、バッチ式あるいは開発用特型をラインアップしています。

アルバックのエッチング装置は、新型不揮発性メモリーから化合物半導体の難エッチング材料におけるエッチングまで、あらゆるニーズに対応します。

電子デバイス、半導体デバイス製造工程に不可欠なレジスト除去技術を、環境配慮型（溶液不使用）、高生産性で提供します。

半導体デバイス向け高性能イオン注入装置のシリーズです。SiC用の高温タイプも提供します。

アルバックのウェハ用熱処理装置は、実績ある高い信頼性を持ち200㎜シリコンウェハの酸化膜成膜や拡散、イオン注入後のアニール等が行える横型バッチ式装置です。