薄膜用材料

アルバックのスパッタリングターゲット、蒸着材はメモリー、ロジック、アナログ、パワーなどの半導体分野、ディスプレイ、LEDなどの表示分野など様々な用途に使用される材料種を取り揃えております。

薄膜用材料イメージ

スパッタリングターゲット材料種一覧

材質 純度 wafer size 主な使用目的
Al合金 5N、5N5 6”、8”、12″ 配線
Cu/Cu合金 4N 6”、8”、FPD 配線
W 5N、5N5 6”、8”、12″ 電極
WSi 4N、4N5、5N 6”、8”、12″ 電極/化合物半導体材料
TiW 4N、4N5、5N 6”、8”、12″ 配線/バリア
Ti 4N、4N5、5N 6”、8”、12″ 電極/バリア
Ni 4N、5N 6”、8”、12″ 電極
Co 5N 6”、8”、12″ 電極
SiO2 4N、5N 6”、8” 絶縁膜
MoSi 4N5、5N 6”、8”、12″ マスクバリア
Cr 3N、4N 6”、8” マスクバリア
BST 4N 6”、8” キャパシタ
PZT 4N 6”、8” キャパシタ
IGZO 4N 6”、8”、FPD 透明アモルファス酸化物半導体

標準蒸着材料一覧

材質 純度 型式 形状 数量
Al 5N SAW-15 φ1.5×L 250gr
SAP-06 φ6×15 200P
SAP-22 φ22×14.6 20P
SAS-40 φ49×φ36×26H 3P
SAS-110 φ69×φ57×36H 2P
5N5 MAP-06 φ6×20 10P
5N8 CAP-06 φ6×20 10P
6N φ6×20
Cr 3N SCS-1 4×30×1.5 100P
SCS-2 6×8×4 100P
SCP-4 20×20×6 5P
SCH-10 φ32×φ24×15 5P
SCH-40-20 φ45×φ35×20 2P
Cu 4N ZMC-06 φ6×15 200P
Ni 4N 10×3×7 100P
4N 10×14×7 10P
4N φ45×φ35×20 2P
4N φ10×3 100P
Ti 3N φ13×7.5 100P
4N5 φ12×3.5 100P
4N5 φ45×diameter 35×20 2P
Ag Alloy 4N φ10×15 50P
Mo 4N φ10×5 10P

※標準品以外にも材料、形状等ご相談を承ります。
※各種真空蒸発源部品も取り扱っております。ご用命ください。

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