横型熱処理装置
Model：H83 / H84
”Model：H83 / H84”は、200mmシリコンウェーハの拡散・熱酸化・アニール工程に対応した半導体製造向け横型拡散炉です。5ゾーン独立温度制御による優れた均熱性と安定したプロセス再現性により、研究開発から量産工程まで高信頼な熱処理を実現します。
特長
- シリコンウェーハの拡散、熱酸化、アニール工程で採用されている横型炉
- 1つの装置で異なるプロセスも選択可能
- 3段、4段構成とすることで省スペースを実現
- 5ゾーンヒータはそれぞれ独立制御しており、均熱性、安定性に優れた温度制御が可能
- 自社製制御系を搭載しており、容易で信頼性の高い運転を実現
- “Model：H83-125″、”Model：H84-125” はボートエレベータを標準装備しており、上段へのローディングも容易
- パイロジェニック酸化、ウェット酸化、ドライ酸化、オキシ塩化リン（POCl3）や三臭化ホウ素（BBr3）を使用したリン拡散やボロン拡散、アニールなどの処理が可能
用途
- シリコンウェハの熱酸化、拡散、アニール処理
仕様
| 型式 | Model：H83-50 | Model：H83-125 | Model：H84-125 |
|---|---|---|---|
| プロセス | 酸化、拡散、アニール | ||
| ウェハ径 | ～200mm (8 inch) | ||
| 段数 | 3 | 3 | 4 |
| プロダクトウェハ数 | 50 | 125 | 125 |
| ヒータゾーン | 5 | ||
| ヒータ材質 | Fe-Cr-Al | ||
| 常用温度 | 600～1200 ℃ | ||
| 均熱長 | 370 mm | 800 mm | 800 mm |
| 均熱性 | ±1.0 ℃ | ||