アークプラズマ法ナノ粒子形成装置
Model：APD
パルス真空アーク放電を利用した新しいナノ粒子形成装置です。
パルス真空アーク蒸着は、シンプルなプロセスで金属イオンを生成し、極薄膜やナノ粒子を形成する唯一の手法です。
微粒子の形成など他の蒸着法では得られない効果を得ることが出来ます。
特長
- APD-P（粉末へのナノ粒子担持用）
ナノ粒子を粉体などに坦持する事が出来ます。 - APD-S（基板成膜用）
nm程度の膜厚からμmオーダーの膜厚制御までパルス数で簡単に膜厚制御可能です。
用途
- APD-P（粉末へのナノ粒子担持用）
ナノ粒子を利用した燃料電池触媒、排ガス触媒、光触媒
VOC分散触媒、カーボンナノチューブ触媒、プラズモン - APD-S（基板成膜用）
金属薄膜（磁性、プラズモン、保護膜）
仕様
| 型式 | Model：APD-P | Model：APD-S |
|---|---|---|
| 温度範囲 | RT※ | 500℃ |
| 試料寸法 | 粉末20cc | 2in |
| 蒸着雰囲気 | 真空 | 真空 |
| 蒸着源数 | 基本的蒸着材料（ターゲット） Pt Au Ag Fe Ni Al 蒸着源はお客様ニーズにより検討・提案致します。 |
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※オプションで500℃までの蒸着も可能