バッチ式自然酸化膜除去装置
Model：RISE-300
バッチ式自然酸化膜除去装置 "Model：RISE-300" は、LSIのDeep-contact底部など困難な自然酸化膜除去に対応するバッチ式プリクリーン装置です。対象ウェハ200mm、300mmをラインアップしています。
特長
- 高スループットと低CoOの実現
- 良好なエッチング均一性（< ±5%/バッチ）と再現性
- ドライプロセス
- ダメージフリー（リモートプラズマと低温プロセス）
- セルフアラインコンタクトの抵抗を従来のウェットプロセスの1/2に低減
- フレキシブルな装置レイアウト
- メンテナンス性を重視（サイドメンテフリー）
- 300mmウェハ50枚一括のバッチ処理
用途
- セルフアラインコンタクト形成時の前処理
- キャパシタ形成時の前処理
- エピタキシャル成長時の前処理
- Co（Ni）サリサイドの前処理
仕様
| 型式 | Model：RISE-300 | |
|---|---|---|
| プラズマ源 | マイクロウェーブ電源 | |
| 装置構成 | EFEM + LL + PM | |
| 基板サイズ | φ300mm | |
| 基板ステージ | セラミックボート（50枚/バッチ） | |
| 排気系 | メカニカルブースターポンプ+DRP | |
| 制御系 | FAPC+TFTタッチパネル | |
| ガス導入系 | 3系統 | |
| アプリケーション | SAC、キャパシタ、エピタキシャル成長サリサイド形成時の前処理 | |
| 電気 | 主電源1 | AC±208V, 50/60Hz, 3φ118A, 41kVA |
| 主電源2 | AC±208V, 50/60Hz, 3φ83A, 28.6 kVA | |
| ポンプラック | AC200V, 50/60Hz, 3φ86.5A, 30kVA | |
| 冷却水 | 本機用 | 0.2〜0.5MPa 水温20〜25ºC 流量20L/min×2系統 |
| DRP・チラー用 | 0.2〜0.5MPa 水温20〜25ºC 流量15L/min |
|
| 圧縮空気 | 0.4〜0.7MPa | |
| 窒素ガス | 0.6〜0.9MPa | |
| プロセスガス | チャンバベント、ポンプパージ | 0.6〜0.9MPa |
| 排気 | 本機 | 20m3/min |
| ガスボックス排気（可燃ガス側） | 2.0m3/min | |
| ガスボックス排気（支燃ガス側） | 0.3m3/min | |
| ポンプラック排気 | 10.5m3/min | |