オプトデバイス・MEMS向け
ドライエッチング装置
Model：NLD-5700
オプトデバイス・MEMS向けドライエッチング装置 "Model：NLD-5700" は、磁気中性線プラズマ（NLD）源を搭載した量産用ドライエッチング装置です。 （アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ（NLD）による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置）
特長
- カセット室を標準装備し、アライナ機構の追加で量産ツールとしてラインナップ可能
- 追加エッチングチャンバーやアッシングチャンバーを搭載可能
- NLDはICP方式に比べ、さらに低圧・高密度・低電子温度のプラズマを生成し、石英・ガラス、水晶、LN、LT基板などの加工に対応
- チャンバーメンテナンスが簡単で効率的
- マスクエッチングから石英・ガラスのエッチングまで、幅広いプロセスソリューションを提供
- 複数台のデモ機を用意し、安定性や新規プロセスの評価が可能
用途
- 光デバイス（回析格子や変調器、光導波路や光スイッチ等々）、凹凸型のマイクロレンズ
- 流体経路作成(μ-TAS）やフォトニック結晶