ロードロック式プラズマCVD装置
Model：CC-200

ロードロック式プラズマCVD装置 "Model：CC-200" は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

ロードロック式プラズマCVD装置 <br>Model：CC-200イメージ

特長

  • 27.12MHzの高密プラズマプロセス
  • SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：SiO2膜の対応可能
  • CF4+O2プラズマによるチャンバークリーニング可能
  • 有機EL向けの低温成膜用ヒーター対応可能
  • トレー搬送で多様な基板サイズに対応
  • 真空ボックスによりCシリーズ間での間接連続プロセス可能（Sputter：CS-200、Evaporation：CV-200）

用途

  • パワーデバイス
  • LED、LD、高速デバイス等の化合物関連
  • 有機EL開発
  • 太陽電池開発
  • MEMS

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