研究開発用ドライエッチング装置
Model：NE-550EX
高密度プラズマエッチング装置 "Model: NE-550EX" は、有磁場ICP（ISM：ICP with Static Magnetic field）方式の高密度プラズマエッチング装置で、枚葉式の構造を採用し、LL室を標準装備しています。コンパクトで低価格を実現した研究開発向けに最適なモデルです。
特長
- 磁場アシストにより他のICP方式より低圧、低電子温度、高密度プラズマが発生でき、イオン性エッチングからラジカル性エッチングまで幅広いプラズマ制御が可能
- RF投入窓のデポ物付着防止用「スター電極」を搭載
- 加熱機能を有して再現性・安定性重視の装置コンセプト
- 装置構造がシンプルでメンテナンスが容易
- カセット室、200℃基板加熱ESCステージ、終点検知機構など豊富なオプションも搭載可能
- 量産ライン向けuGmni-200Eと同一チャンバーで、開発ツールとして多用なプロセスに対応可能
用途
- 化合物材料（LED、LD、高周波デバイスやパワーデバイス）
- 電極加工やメタル配線、有機膜、セラミック等の加工
- 強誘電体や貴金属、磁性膜等の難エッチング材料の加工に
- ナノインプリント、NEMS、MEMS、各種センサー
- バイオチップや微小流体デバイス、フォトニック結晶など
仕様
| 仕様 | |
|---|---|
| システム構成 | 研究開発/プロトタイプ装置 + Load Lock室 |
| 基板サイズ | 〜150 mm |
| 操作圧力（Pa） | 0.07〜6.7 |
| 面内・面間均一性 | ±3% max. |
| 基板温度制御 | 静電チャック |