薄膜加工イメージ
受託加工・成膜・分析イメージ

光学膜やイオンプレーティング膜、スパッタリング膜の受託加工および、加工相談は、アルバックグループのタイゴールド株式会社にて承ります。さらに、試作やファブレスでの製造サポートも提供し、個別のニーズに応じた最適な解決策を提案します。

Meta Mode®スパッタリング法により平滑性に優れた光学のコーティング、イオンプレーティング法により耐摩耗性、潤滑性に優れた硬質膜のコーティングが可能です。

光学膜

低温でのスパッタリングプロセスを使ってプラスチック、フィルムへの密着性、平滑性に優れた各種光学膜製品を提供します。バッチ式のため小ロット多品種から大量生産まで対応可能です。

ISO9001認証取得工場で徹底した品質管理の下、クリーン度クラス10,000の専用クリーンルーム内で作業しています。

  • 撥水コーティング
  • 反射防止コーティング
  • カラーコーティング
  • 黒色コーティング
  • 反射ミラー
  • 赤外線カットフィルター
  • 多層膜コーティング
成膜方法 装置type 成膜種類 装置台数 特徴
Digital Sputter法 Batch Si  Nb  Ti  Al  SiO2  Nb2O5  TiO2 6台 ・誘電体積層膜による反射透過制御、VIS/IR制御
・低温成膜
蒸着 Batch 撥水膜(AFP) ・材料表面の撥水・撥油機能向上
・防汚機能

イオンプレーティング膜/スパッタリング膜

イオンプレーティング処理を世界で初めて企業化した受託加工のパイオニアです。

イオンプレーティング膜についてはHCD法・AIP法を主体とした硬質膜を提供しています。イオンプレーティングは金型・自動車部品をはじめ真空装置部品・印刷機器部品・医療器や工業材料、産業用、電子機器から民生用電気製品・装飾品まで様々な分野に広く利用されています。

  • TiN (耐摩耗・耐腐食膜)
  • CrN (耐摩耗・耐腐食膜)
  • DLC(低摩擦膜)
  • AlTiN(高輻射膜)
  • TiCN(硬質装飾膜)
  • 加飾膜(スプーンなどの金属食器用のイオンプレーティング処理)
  • スパッタリング膜
成膜方法 装置type 成膜種類 装置台数 特徴
HCD法 Batch Ti TiN TiC TiCN Cr  CrN CrCN 4台 ・成膜面が機材の表面粗さと同等仕上
・低温成膜(200℃以下)が可能
HCD法 Inline Ti TiN TiC TiCN 3台 ・成膜面が機材の表面粗さと同等仕上
・低温成膜(200℃以下)が可能
・多量生産に優れる
AIP法 Batch Ti TiN TiC TiCN Cr CrN CrCN TiAlN AlTiN 4台 ・成膜面粗さは損なわれるが密着性に優れる
・合金膜の成膜が可能
ION-ASSISTED法 Batch DLC 1台 ・Amorphous構造のため表面が滑らか
・潤滑性、摺動性に優れる
・摩擦係数が小さい(μ=0.2以下)
Sputter法 Batch Ti系被膜 Cr系被膜 4台 ・顧客要求仕様に応じて対応
潤滑膜 貴金属膜

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