研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置
NE-550EX

成膜関連装置エッチング装置

研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP（ISM=Inductively Super Magnetron)方式の高密度プラズマエッチング装置、枚葉式でLL室を標準装備し、コンパクト・低価格を実現しました。

用途

• 化合物材料（LED、LD、高周波デバイスやパワーデバイス）。
• 電極加工やメタル配線、有機膜、セラミック等の加工。
• 強誘電体や貴金属、磁性膜等の難エッチング材料の加工に。
• ナノインプリント、NEMS、MEMS、各種センサー。
• バイオチップや微小流体デバイス、フォトニック結晶など。

特長

• 磁場アシストにより他のICP方式より低圧、低電子温度、高密度プラズマが発生でき、イオン性エッチングからラジカル性エッチングまで幅広いプラズマ制御が可能なため、開発toolとしての多用なプロセスに対応できる。
• RF投入窓のデポ物付着防止用「スター電極」を搭載。また加熱機能を有して再現性・安定性重視の装置コンセプト。
• 高信頼性の搬送ロボット、装置構造がシンプルでメンテナンスが容易等研究開発Toolとしての信頼性を実現。
• 豊富なオプション機能、カセット室追加も可能。
• 量産ライン向けに同一チャンバーで構成したマルチチャンバー対応のNE-5700、NE-7800をランナップ。