電子デバイス、半導体デバイス製造工程に不可欠なレジスト除去技術を、環境配慮型(溶液不使用)、高生産性で提供します。

アッシング装置 Model:NA
次世代ウェーハプロセスから実装工程まで幅広いプロセス向けの、ウェーハとパネル対応の2タイプを提供するアッシング装置です。 ウェーハ対応モデルは、次世代ウェーハ……
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電子デバイス、半導体デバイス製造工程に不可欠なレジスト除去技術を、環境配慮型(溶液不使用)、高生産性で提供します。

次世代ウェーハプロセスから実装工程まで幅広いプロセス向けの、ウェーハとパネル対応の2タイプを提供するアッシング装置です。 ウェーハ対応モデルは、次世代ウェーハ……
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