アルバックの真空乾燥炉は、HVからUHVの圧力領域でクリーンな環境下での脱ガス、前処理用途や、部品表面に付着した物質を真空アニールにて...

低加速・高濃度対応のイオン注入装置です。

Max2400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。

中電流型イオン注入装置SOPHI-200/260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。サンプリングをお受けしてい...

高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。

中電流イオン注入装置IMX-3500は、最大エネルギ200kV、ウェーハサイズ8インチまでの、イオン注入装置で、大学等での研究開発に最...

Luminous NAシリーズはクリティカルな次世代ウェーハプロセスからウェーハレベル実装工程まで幅広いプロセスに対応可能なウェーハサ...

量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡...

オプトデバイス、MEMS向けドライエッチング装置NLD-5700は、磁気中性線プラズマ（NLD）源を搭載した量産用ドライエッチング装置...

研究開発向けNLDドライエッチングNLD-570は、アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ（NLD）による低圧・低電子温度・高密...

バッチ式自然酸化膜除去装置RISE^TM-300は、LSIのDeep-contact...

研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP（ISM=Inductively Super Magnetro...

高密度プラズマドライエッチング装置ULHITE^TM NE-7800HはFeRAM、...

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。

バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動...

【水冷式油拡散ポンプ（1100L/sec）＋油回転真空ポンプ】
架台内に油拡散ポンプ・油回転真空ポンプ・ピラニ...

ターボ分子ポンプ＋油回転真空ポンプを採用。抵抗加熱式の小型真空蒸着装置。
架台内にメインポンプ・補助ポンプ・ピラニ真空計・電...

架台内にターボ分子ポンプ・補助ポンプをコンパクトに収納した、抵抗加熱式で低コストタイプの小型真空蒸着装置です。クリーン排気で基礎研究開...