雰囲気可変型ランプ加熱装置　VHCシリーズ

赤外線イメージ炉 システム加熱・アニール装置熱処理・加熱装置

太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。
VHCシリーズはQHCシリーズの機能に加えて真空排気系とピラニ真空計が搭載されています。
加熱操作をパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能です。

用途

• 太陽電池基板の熱処理
• 水素雰囲気下での熱処理
• 各種材料の基礎研究用雰囲気アニール・熱処理シミュレータ
• ガスクェンチ熱処理
• 熱サイクル試験　熱衝撃試験
• 半導体材料の焼成、アニール条件の検討
• 2インチウェハ研究用アニール
• セラミックスのO₂量制御雰囲気での熱処理

特長

• 高速加熱から低速加熱まで幅広い条件設定
• 多段ステップ　サイクル加熱
• ガス冷却機構による高速ガスクェンチ、クーリングコントロール
• パソコンによる手軽なデータ管理