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ガス分析計(プロセスガスモニタ)Quleeシリーズ

ガス分析計(プロセスガスモニタ) Quleeシリーズ

アルバックの残留ガス分析計(プロセスガスモニタ)は、宇宙、原子力などの最先端研究・開発用途に適した高性能・高分解能ハイエンドモデルから、 一般用途に適したベーシックタイプまで幅広いラインナップがあります。 シンプルさと使いやすさを実現し、真空装置のプロセス管理まであらゆるニーズに対応いたします。

真空計測と計測器

用途・目的

真空の質を確認したい、
気体の成分毎の情報を知りたい

プロセス 用途 目的
半導体製造装置
プロセスモニタ
残留水分(H20)やリークの確認 結晶性の低下
液晶パネル製造装置
プロセスモニタ
残留水分(H20)の確認 液晶面の歩留まり問題
光学用蒸着装置
プロセスモニタ
残留水分(H20)の確認 光学薄膜面の歩留まり問題
真空熱処理装置
雰囲気モニタ
残留酸素(O2)やハイドロカーボン(CXHY)、リークの確認 光輝性の低下、色ムラの出現
凍結乾燥装置
プロセスモニタ
乾燥確認、不純物流入確認 乾燥時間の長大化性能・効能・味・見た目の変化

プロセスガスモニタの構成

a.イオン源

フィラメントから熱電子e-を放出

熱電子はグリッド電極の周囲に分布

熱電子と衝突した気体分子がイオン化

生成したイオンはQ-poleに入射して質量数ごとに分離される

b.質量分離部

4本の平行な棒状電極から構成され、対向する2本の電極に直流電圧と高周波電圧を印加し、それらと90度対向する2本の電極に逆の極性の電圧を印加します。

c.検出部

イオンが初段の電極に当たると複数の2次電子が飛出し、これがさらに衝突を繰り返していく一種のアンプです。

使用例

成膜装置おけるプロセスガスモニタ

【PVD装置の場合】

  • 高純度Gas濃度管理
  • 外部Leak check
  • 内部Leak check
  • 不純物check
  • 放出Gas
  • 放出Gas残留Gas分析(RGA)
  • Process gas monitor

製品の紹介

「誰にでも簡単に取扱いが可能」「立上げ時間の短縮」「リークテストの簡便さ」を求め、使い勝手を焦点に合わせたアルバックのQuleeシリーズは、分析管と一体になっている電源部に操作面や表示部を設け、パソコンを立ち上げることなく測定可能です。また、パソコンを介して詳細なプロセス解析やデータ管理・処理をおこなうこともできます。

各種プロセスデータ例

アルバックの残留ガス分析計/プロセスガスモニタに対応したソフトウエア「Qulee QCS」により、簡単なクリック操作でスキャンモード(任意の質量数範囲を測定)やトレンドモード(任意の質量数についての経時変化を測定)など、使用される方のニーズにマッチした測定方法を選択することができます。

ガス分析計用ソフトウェアQulee QCSの特徴

  • One Clickのみで分析スタート
    複雑な操作は一切なし、操作性大幅に向上
    電源を接続すればスタートスイッチONのみ
  • スィッチも必要最少限に抑え取扱も簡便
  • PCレスでリークテスト、不純物(H2O)分析が可能
  • PCを使用することで取扱説明書レスも可能
    環境にも優しい、クリーンルームでのご使用にも最適

測定モード

スキャンモード

任意の質量走査範囲を連続にスキャンして、質量スペクトルを測定するモードです。
質量数の設定は分析管の仕様に依存します(M/e=1~300等)

トレンドモード

任意の質量数を選択的に測定して、各測定質量数の経時変化を測定するモードです。

最大20CHまで測定可能。質量数の設定は分析管の仕様に依存します(M/e=1~300等)

アナログモード

アナログ波形を確認するモードです。
スキャンモード・トレンドモードにて使用するセンサーのアナログ波形のピークトップ設定値を規定、調整するモードです。この作業を質量数校正と呼びます。

濃度表示機能

表示単位にA、Pa以外にppmを表示できます。
メインのガスを100%として計算することにより分析した気体中の成分がppmで表示可能です。

トレンドモードにおいて、組成名の表示が可能です。
質量数(M/e)表示に加え、He、Ar、N2などの気体の名称の表示可能です。

積分機能

トレンドデータ上の任意の範囲を積分(面積)計算する機能を追加しました。
これにより総放出ガス量の計算などが容易に可能となり、昇温脱離ガス分析、破壊分析などのアプリケーションで有効となります。
積分結果はテキスト形式での保存ができます。

バックグランド処理機能

トレンドデータの任意の点をバックグランドとして、差し引き計算を行い表示する機能を追加しました。昇温脱離ガス分析、破壊分析などのアプリケーションで有効となります。

Qulee QCSの詳細へ

ベーシックプロセスガスモニタ  Qulee BGM

用途

  • 有機EL蒸着装置の残留水分管理
  • 光学膜やメタル膜用蒸着装置の不純物管理
  • 各種スパッタリング装置のRGAとして
  • 各種真空炉(真空熱処理炉/溶解炉/ロー付炉など)のRGAとして
  • 真空凍結乾燥炉のRGAとして
  • 各種研究開発向け

特徴

  • コストパフォーマンス抜群
  • PVDのRGAとして最適
  • PCレスで測定が可能(表示部一体型)
  • 測定中120℃までのベーキング可能(分離状態では250℃まで可)
  • リークテスト機能の充実
  • QIPのオプション対応可能(自動測定開始/終了/データ保存機能付)
  • デガス機能搭載(電子衝撃離脱方式)

該当品

BGM-101/102/201/202

Qulee BGMの詳細へ

コンパクトプロセスガスモニタ Qulee CGM

用途

  • FPD、SEMI、PVなどのスパッタリング装置
  • 巻取スパッタリング装置の残留水分管理
  • 各種スパッタリング装置の不純物管理

特徴

  • スパッタリング装置のプロセス管理に最適
  • スパッタリング装置の残留ガス分析(RGA)測定も可能
  • 差動排気系不要、Process(1Pa)でも測定可能
  • PCレスで測定が可能(表示部一体型)
  • リークテスト機能の充実
  • 測定中120℃までのベーキング可能(分離状態では250℃まで可)
  • 小型分析管
  • QIPのオプション対応可能(自動測定開始/終了/データ保存機能付)
  • デガス機能搭載(電子衝撃離脱方式)

該当品

CGM-051/052

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ハイパフォーマンスプロセスガスモニタ Qulee HGM

用途

  • 昇温脱離ガス分析などの各種研究開発向け
  • 極高/超高真空排気装置の残留ガス分析
  • ガス中の微量不純物の測定
  • 太陽電池関連の研究開発
  • 環境測定

特徴

  • 世界最高検知分圧を実現
  • 10-13Pa台の測定が可能
  • 各種研究開発用途に最適
  • 質量数300番まで測定可能(HGM-302)
  • 測定中250°Cまでのベーキング可能(分離状態では300°Cまで可)
  • フィラメント、イオンソース、二次電子増倍管の交換が簡単
  • PCレスで測定が可能(表示部一体型)
  • デガス機能搭載(電子衝撃離脱方式)

該当品

HGM-202/302

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リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM

用途

  • エッチング装置、CVD装置の各種管理
    ・プロセス中の反応ガスモニタ
    ・エッチングやクリーニングプロセスのエンドポイントモニタ
    ・残留ガス分析
    ・残留ガス分析排ガス分析
    ・リークテスト

特徴

  • 反応性ガス・腐食性ガス化においても長時間安定測定が可能
  • 磁石付クローズド型イオン源の採用
    ・ソフトイオン化でガス乖離が少ない
    ・ULVAC独自のV字型フィラメントの採用
  • コンパクトな流路制御バルブの採用
  • リークテスト機能の充実
  • 予防保全機能の充実

該当品

RGM-202/302

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差動排気系キット付き四重極型質量分析計 Qulee with YTP

用途

  • 各種研究開発用途向けのガス分析
  • 大気圧分析/環境測定など(大気圧仕様)
  • 凍結乾燥装置の乾燥ポイントおよび不純物管理
  • 真空浸炭炉のエンドポイントモニタおよび酸素濃度管理

特徴

  • コストパフォーマンス抜群
  • コンパクト設計/標準排気ユニット・YTP-50Mを採用
  • 測定圧力帯を大気圧/3000Pa/500Pa/100Pa/10Pa/1Paから選択可
  • ランニングコスト低減(ターボ分子ポンプ)
    ・ピポット軸受のため面倒なオイル交換/補充や軸受交換が不要
  • 清浄な高真空を実現
  • ターボ分子ポンプで使用のフッ素油は飽和蒸気圧が10-11Pa台で、DRY仕様とすることで限りなく清浄

該当品

Qulee with YTP(BGM-101/102/201/202/HGM-302)

Qulee with YTPの詳細へ

関連情報

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