乾燥炉
AMF-1000 ACF-500 ASF-500
アルバックの真空乾燥炉は、HVからUHVの圧力領域でクリーンな環境下での脱ガス、前処理用途や、部品表面に付着した物質を真空アニールにて清浄化させる再生処理用途に適応した装置です。
用途
- 真空部品再生処理用
- カラーフィルター前処理、小型パネルアニール用
- SEM用部品UHV脱ガス用
- 半導体用部品洗浄後脱ガス用
特長
- 横扉方式を採用し、メンテナンス性を重視した設計
- 1m×1mパネルサイズ10枚を同時に熱処理可能
- 再生時に放出されるガスを除去するためのトラップを装備
- 昇温、冷却時の温度分布を大面積で均一に制御可能
- 標準装置で10-6Paの到達圧力、さらに10-7PaのUHV仕様のアニール炉を提供します。
仕様
| AMF-1000 | ASF-500 | ACF-500 | |
| 到達圧力 | 7 × 10-6 Pa | 7 × 10-6 Pa | 7 × 10-6 Pa |
| 排気系 | クライオポンプ、 TMP+RP選択可能 |
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| 加熱範囲 | 1000mm × 1000mm × 40H × 10枚 | 500Φ×500L | |
| 基板加熱温度 | MAX450ºC | MAX350ºC | MAX450ºC |
| 温度分布 | 450ºC±10ºC | 350ºC±10ºC | 450ºC±10ºC |
| 加熱方式 | 内熱方式 | 外熱方式 | 内熱方式 |
