ロードロック式プラズマCVD装置
CC-200/400

成膜関連装置CVD装置

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

用途

• パワーデバイス
• LED、LD、高速デバイス等の化合物関連
• 有機EL開発
• 太陽電池開発
• MEMS

特長

• 27.12MHzの高密プラズマプロセス
• SiH₄系：SiO₂、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：SiO₂膜の対応可能
• CF₄+O₂プラズマによるチャンバークリーニング可能
• 有機EL向けの低温成膜用ヒーター対応可能
• トレー搬送で多様な基板サイズに対応
• 真空ボックスによりCシリーズ間での間接連続プロセス可能 (Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200).