a-Si成膜や不動態膜成膜に不可欠なPE-CVD装置から、メタルCVD、熱CVD装置まで、枚葉式、バッチ式あるいは開発用特型をラインアップしています。
ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。
枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。
CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。
マルチチャンバ型スパッタリング装置ENTRONTM-EX2 W300は、多様なプロセスを結び付ける最新のプラット...
マルチチャンバ型装置ENTRONTM N300は、適切な投資効率を実現するジャストフィット装置です。PVD、CV...
